杭州钻石抛光液厂家

多晶金刚石抛光液  

多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合**散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。

主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。  

氧化硅抛光液（CMP抛光液）  

CMP抛光液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。 ***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。   

氧化铈抛光液  

氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。  适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。  

氧化铝和碳化硅抛光液  

是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。 主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。 本公司销售的氧化铝抛光液颗粒分散均匀，不团聚，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺点。杭州钻石抛光液厂家

复合抛光液对硅衬底去除速率的影响

目前，IC产品用到的衬底材料大都是硅材料，绝大多数的的半导体IC器件以高纯质量硅基作为衬底。但是随着IC产品集成度进一步提高，对硅单晶衬底片表层质量与表面平整度要求越趋严格，即要求硅衬底抛光片或外延片表面高平整度、高光洁度、表面无损伤。化学机械抛光是***能实现如此高精度的方法。抛光液pH值，组分等性质对硅衬底抛光速率有着***的影响。复合抛光液是不同的两种以上的抛光液磨料组合而成的，性能良好的混合磨料之间可以形成优势互补，具有单一磨料不具备的新特点。充分发挥其特性，可以获得抗腐蚀性、耐久性和稳定性更好的抛光液。本文通过SiO2磨料和CeO2磨料的混合，确定出抛光速率较高的混合配比和磨料体积分数。 上海国产抛光液规格碳化硅抛光液是以超细碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。

近年来跟着LED工业的开展、宝石衬底需求量的增大，氧化铝抛光液凭仗较高的抛光速率在蓝宝石抛光液中有很好的运用远景。但是氧化铝抛光液在抛光进程中存在涣散安稳性差、抛光进程简单呈现凝聚现象使抛光面呈现划痕的问题。有许多研讨者对进步氧化铝抛光液安稳性进行了研讨。

 抛光液对的影响。化学机械抛光液中的化学成分，如氨、酸等0成分对和人体的很大。为此，在进一步研讨抛光液制备工艺的一起，抛光液的循环利用技术也应进一步完善，做到经济开展与相协调。

依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等，对硅单晶片化学机械抛光（CMP）机理、动力学控制过程和影响因素研究标明，化学机械抛光是一个复杂的多相反应，它存在着两个动力学过程：

（1）抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。

（2）抛光表面反应物脱离硅单晶表面，即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。

硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得质量好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则表面产生高损伤层。 本公司销售的氧化硅抛光液粒径分布***：5-100nm。

高介电材料钛酸锶钡化学机械抛光用的纳米抛光液:一种用于半导体器件中高介电常数介电材料钛酸锶钡(BaxSr1-xTiO3,BST)化学机械抛光(CMP)的纳米抛光液。该CMP纳米抛光液包含有纳米研磨料、螯合剂、pH调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂及溶剂等。该抛光液损伤少、易清洗、不腐蚀设备、不污染环境,主要用于新一代高密度存储器(DRAM)电容器介电材料及CMOS场效应管的栅介质——高介电常数介电材料钛酸锶钡的全局平坦化。利用上述纳米抛光液采用化学机械抛光方法平坦化高介电常数介电材料钛酸锶钡,抛光后表面的粗糙度降至0.8nm以下,抛光速率达200～300nm/min;抛光后表面全局平坦度高,损伤较少,是制备超高密度动态存储器(DRAM)及CMOS场效应管时高介电材料平坦化的一***抛光液。纳米 抛光液用 于硬质材料的超精密抛光过程，可使被抛表面粗糙度低于0.2nm。杭州钻石抛光液厂家

氧化铝抛光液是以超细氧化铝为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。杭州钻石抛光液厂家

化工工业在各国的国民经济中占有重要地位，是许多大国的基础产业和支柱产业，化学工业的发展速度和规模对社会经济的各个领域有着直接影响。私营有限责任公司企业普遍把研发创新能力看作企业**重要的重点竞争力，加大研发进度、提升科技水平，并积极构建开放性和国际化的创新体系。陶瓷研磨球，碳化硅，陶瓷精加工，抛光液领域市场前景好，发展成长性好，技术含量高，具有带领行业发展的作用。是发展战略性新兴产业的重要基础，也是传统石化和化工产业转型升级和发展的重要方向。近年来，随着贸易型飞速增长、人们环保意识的增强和环境保护工作力度的加大，中国化工产业取得了较大的发展。在我国和各级相关部门不断加大重视并持续增加收入，以及伴随着工业发展产生的大量市场需求等方面因素的作用下，中国城市化工行业始终保持较快增长。杭州钻石抛光液厂家

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